리소 고온 T-ESC® (리소 HT T-ESC®)

스핀 에칭은 스핀 코팅과 동일한 원리를 따릅니다. 기판은 척에 클램핑되고 스 피칭 에칭 중에 화학 물질이 표면으로 분사된다..

웨이퍼 가공 동안 웨이퍼는 카세트에서 공구로 그리고 공구 내에서 스테이션에서 다른 웨이퍼로 앞뒤로 이동해야합니다. 깨지기 쉬운 인쇄물의 경우 브레이크가 걸리거나 균열이 발생하여 향후 파손될 수 있으므로 이미 어려운 작업입니다. 또한 얇은 기판의 구부러짐은 일반적으로이 특별한 작업을 위해 설계되지 않았기 때문에 모든 툴링에 많은 문제를 일으 킵니다. T-ESC®와의 임시 본딩은 프로세싱 툴이 표준 웨이퍼와 핸들링 문제 만 볼 수 있기 때문에 큰 도움이되므로 웨이퍼 파손이 제거됩니다.

리소그래피는 코팅, 베이킹, 노출 등과 같은 완전한 리소그래피 처리 단계의 일반적인 이름입니다.

리소그래피 처리의 일부로서, 기판이 척 상에 클램핑되는 동안 액체 화학 물질이 그 표면에 분무되거나 분사된다. 이 절차 동안 또는 이후에 기판이 회전하여 화학 물질이 표면에 걸쳐 균일하게 퍼지게된다.

스핀 코팅 동안 웨이퍼 에지에 균일하지 않은 에지가 형성된다. 이 가장자리는 추가 처리 과정에서 문제를 일으킬 수 있으므로 EBR (Edge Bead Removal)이라고하는 제거해야합니다.

리소그래피 처리 동안, 다음 기판 에칭 프로세스를 견디고 최종적으로 목표 구조를 달성하기 위해 레지스트의 최적 등급을 달성하기 위해 여러 베이킹 단계가 필요하다. 베이킹은 기본적으로 코팅과 함께 기판이 특정 온도로 가열됨을 의미하며, 잠시 동안 유지되고 이후 기판이 냉각되고 다음 단계를 위해 준비된다.

이미 코팅 된 웨이퍼는 마스크를 통해 광 또는 다른 조사원에 의해 조사되므로,이 패턴으로부터 나중에 구조가 형성 될 수있다.

노출 된 코팅으로부터 실제 구조를 생성하기 위해, 코팅은 현상 제에 의해 부분적으로 제거된다. 이것은 욕조에서 또는 회전식 공구로 다시 수행 할 수 있습니다. 모바일 정전 캐리어의 경우 회전 공구 만 사용하는 것이 좋습니다. 현상 단계 후에, 코팅 및 기판에서 패턴을 볼 수있는 패턴은 베이킹 절차 후에 패턴 화 된 영역에서 구조화 될 수있다.

필요하지 않거나 원치 않는 포토 레지스트는 레지스트 박리 공정에서 제거된다. 이것은 일반적으로 화학 물질에 의해 수행됩니다. 또한 건식 스트리핑 공정이 가능합니다. 플라즈마 세정 / 애싱을 참조하십시오.

Slide-Off De-Bonding은 깨지기 쉬운 웨이퍼를 임시 캐리어에 접착 할 때 사용되며 처리 후 Slide-Off De-Bonding으로 해제해야합니다. 기판과 결합 된 접착 된 캐리어는 접착제가 액체가 될 때까지 가열 된 다음 웨이퍼 또는 캐리어가 한 방향으로 미끄러지는 반면 다른 캐리어는 제자리에 고정된다. 그 후에 웨이퍼의 접착제 잔여 물은 화학 물질에 의해 제거되어야합니다. 전체 공정은 T-ESC® (mobile electrostatic carrier)로 지원할 수 있으며 얇은 웨이퍼는 슬라이드 오프 및 이후 세척 단계에서 항상 견고한지지를 갖습니다.