电镀
退火
晶粒/芯片固持
持取
离子注入
化学气相沉积(CVD)/等离子体增强化学气相沉积(PECVD)
物理气相沉积(PVD)/溅镀
等离子清洗/去胶
深反应离子刻蚀(DRIE)/反应离子刻蚀(RIE)
电镀
光刻
光阻涂布/旋转涂布
去厚胶边(EBR)
烘烤
曝光
显影
去胶
旋转蚀刻
滑动剥离
持取
研磨
持取
针测
持取
针测
旋转蚀刻
电镀
退火
晶粒/芯片固持
持取
离子注入
化学气相沉积(CVD)/等离子体增强化学气相沉积(PECVD)
物理气相沉积(PVD)/溅镀
等离子清洗/去胶
深反应离子刻蚀(DRIE)/反应离子刻蚀(RIE)
电镀
光刻
光阻涂布/旋转涂布
去厚胶边(EBR)
烘烤
曝光
显影
去胶
旋转蚀刻
滑动剥离
持取
研磨
持取
针测
持取
针测
旋转蚀刻